三星电子宣布，已完成其10 nm FinFET工艺技术的资格认证流程，准备开始生产。三星第二代10nm FinFET工艺技术被称为10LPP(低功耗增强版)。10LPP基于第一代10LPE(低功耗早期)工艺打造。随着3D FinFET结构的进一步增强，与同面积缩放的第一代10lp工艺相比，10lp可实现高达10%的性能或15%的功耗降低。

“凭借我们成功的10LPE生产经验，我们已经开始生产10LPP，以保持我们在先进节点OEM市场的领先地位。10LPP将成为我们高性能移动、计算和网络应用的关键工艺产品之一，三星将继续提供最先进的逻辑工艺技术。”

—三星电子OEM营销副总裁瑞恩李

为了满足其姐妹单位和其他客户对10纳米工艺的长期需求，三星已开始在其位于韩国花城的最新S3生产线上安装生产设备。S3系列产品预计将于2017年第四季度投产。

第一代10LPE技术为三星和其他使用三星或高通SOC的原始设备制造商的当前旗舰产品提供动力。目前，我们还不清楚何时可以期待采用基于10LPP工艺的设备来制造芯片。